国产最新光刻机2022 国产最新光刻机国产光刻机小说( 二 ) _最

考虑到上海微电子做了多年的光刻机设备，因此下一代光刻机的产量可能大到足以撑起一座先进的晶圆工厂。但是，在28纳米制程工艺上，如果芯片制造商已经用了ASML或者尼康的光刻机，可能要重新设计制程工艺节点才能换用上海微电子的光刻机。虽然国内很快就能自主生产用于28纳米制程工艺节点的光刻机，但本土半导体厂商纷纷导入上海微电子的28纳米光刻机，肯定需要更长的时间。
如果以上传言非虚，那么上海微电子只用两年多的时间、即研发出可用于28纳米制程工艺节点的光刻机，在技术上绝对可以说是一个非常大的进步。当下一代光刻机正式对外面世，而且能够用于芯片制造，无疑是国产半导体产业自给自足再次向前迈出重要一步。

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先前，半导体行业专家莫大康称，中国半导体产业几乎不可能再重建一条国产化高达100%的生产线，既不经济，几乎也不太可能，连美国都做不到。所以必须依靠全球化的协同力量。但是眼前的态势是残酷的，没有其它的可行之路，逼着向国产化迈进。对此，外人或许可以这样理解他所表达的观点：中国半导体产业在向国产化方向努力的同时，应该依靠全球化协作，在技术上去美国化的同时，与其他国家（地区）精诚合作，达到互利共赢……
莫大康表示，半导体业者必须把国产化视为必修课之一，只有通过国产化的进程来提高自身的竞争力，所以不单是要踏实苦干，循序渐进，同时要高歌挺进。相信当能将若干关键半导体设备如光刻机、CVD、离子注入机、测试仪等部分实现了国产替代，并能达到较高水平，那时高技术出口禁运政策就自然会瓦解。对于中国半导体产业要做好长远的心理准备，可能要五年左右的不懈努力攻关。集中国内的优势兵力，才有可能取得成功。全球化不是西方的恩施，而必须依靠自身的竞争力提升，所以全球化必须是通过竞争胜出努力争取才会到来。

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并且，他也提到，目前国内光刻机迫切要解决“卡脖子”问题，因为在国外光刻机设备进囗受阻时，国内光刻机在芯片生产线中的量产水平，直接决定了国内芯片生产线的工艺制程水平，所以它是“开路先锋” 。按照此目标任务，首先要解决的是193纳米浸润式光刻机，能满足量大面广的、从28纳米到7纳米逻辑工艺芯片制造的需求，而不是EUV极紫外光刻机， EUV光刻机机应该作为下一步突破的目标。
【国产最新光刻机2022 国产最新光刻机国产光刻机小说】莫大康认为，光刻机的攻坚任务是开路先锋，它具有设备国产化的示范引导意义，因此必须集国内的智慧人力及财力，克服困难，彻底改变科研院所之前只关注解决从0到1而不能与企业相结合，必须真正能解决芯片量产中的实用化问题。同时，对于光刻机国产化的复杂性要有充分认识与估计，因为在02专项攻关任务中，它是年年在列。

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